什么是單晶硅呢?它是一種半導體材料,其導電能力介于導體和絕緣體之間,主要應用于太陽能電池行業。在單晶硅的生產過程我們要對其進行清洗,而清洗單晶硅時需要使用不含雜質的超純水進行清洗,那么,超純水設備就是一種可制備超純水,出水電阻率高且不含任何雜質的設備。
目前主要的超純水系統設計的主要工藝為雙級反滲透與EDI相結合的制水工藝,具有水利用率高,運行可靠,經濟合理等特點。那么,制備單晶硅清洗用水的超純水設備在長時間工作后,如果不定期進行維護,就很容易被污染,因此要對該設備進行“呵護”,才能保證設備出水水質符合要求。
如何,清洗保養超純水設備?
1、將專用清洗液與純凈水在清洗藥箱內混合。
2、用清洗泵低流量將清洗液以低流速、低壓力打至膜系統,并排走原水,防止清洗液稀釋。
3、保持設備溫度穩定,用清洗泵將清洗液在系統中循環。
4、清洗液在設備內浸泡一小時即可,污染較嚴重的膜系統可進行更長時間的浸泡清洗。
5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分鐘,使膜表面上被洗掉的污染物隨高流速水沖走。
6、用清水將清洗液沖去。設備沖洗后的清水需要保證PH6.5-7.5之間。
綜上,單晶硅清洗應用的超純水設備具有結構設計相對靠緊,占地面積小,應用范圍廣等特點,但只有定期清洗才能夠能夠連續穩定的制備品質優良的超純水,保證設備更長久的運行。
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