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在半導體加工的過程中，需要用水進行處理，該水質的要求非常高，不能含有任何離子雜質，因此只有超純水符合行業用水要求。但超純水的回用率不高，因此對優質超純水的需求量很大。...
EDI系統自動化程度高，可以連續工作。出水量水體優良平穩，出水量電阻低≥15mΩ·cm。融合其他預備處理加工工藝和混床工藝處理，出水量電阻可達18.2mΩ·cm，做到工業電子超純水規范。...
萊特萊德超純水裝置嚴格執行國家環保政策，確保處理后水質穩定達標，布局集成電路產業核心發展。...
傳統式的超純水設備因出現技術性缺陷而不可以符合智能化的制造規定。作為一種新式的水凈化設備，萊特萊德超純水設備幾乎可以除去水里的電解質，產出的超純水水體貼近18.25MΩ.cm。...
超純水設備采用獨有的靶向離子交換系統，去除超純水中難以處理的硼等離子體，連續穩定地生產高純度超純水。廣泛應用于晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍涂料、試劑稀釋、氟化工等領域。...
清洗不但是半導體生產制造加工工藝的關鍵構成部分，也是危害半導體元器件良品率的主要要素之一。...
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