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半導體工業重要的電子化學試劑 超純水

2022-07-26

  隨著半導體工業技術的快速發展,對超純水的要求和標準也在不斷提高,特別是對于線寬較小的集成電路,幾個金屬離子或灰塵顆粒就足以報廢整個電路。超純水作為半導體工業中重要的電子化學試劑之一,廣泛應用于半導體和化合物半導體設備的制造,其生產制備越來越受到重視。

  目前,在市場上常見的超純水工藝中,離子交換工藝已被反滲透工藝所取代。反滲透工藝無需樹脂再生,可實現24小時連續產水,且制水生產過程中無廢酸、廢堿排放。萊特萊德的超純水設備搭載Ryperm技術的反滲透設備,提高硅和硼的去除率,提高系統的出水水質。

  萊特萊德可以為用戶提供更好的優品超純水,解決傳統超純水生產過程中能耗大、步驟多、成本高、產品純度低、產品質量不穩定的問題,實現連續大規模生產,工藝簡單,配置合理有效,處理效率高,具有經濟環保優勢,確保生產水質達到國標《電子級水》和美標《電子和半導體超純水質標準》。

  工藝流程:

  原水進水→UF裝置→一級RO→二級RO→TOC裝置→EDI系統→氮封系統→TOC裝置→脫氣系統→靶向離子交換→終端過濾→用水點

  萊特萊德采用獨特的靶向離子交換系統,定向去除超純水中難以處理的硼等離子體,確保出水硼離子穩定≤5ppt。系統集成度高,雙操作系統,系統穩定性高。高純度超純水可連續穩定生產,無需因樹脂再生而停機。設備日常維護簡單方便,設備耐用,使用壽命長。

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