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EDI超純水設備具有較高的性價比和設備可靠性。出水水質除水分子外幾乎不含雜質，電阻率可達18mΩ·cm，滿足芯片生產用水需求。...
超純水系統采用反滲透技術+EDI+拋光混床系統制備超純水。它是一種純物理過程的制備技術。其出水電阻可達18mΩ·cm(25℃)，具有長期不間斷運行、自動運行、操作簡單、水質穩定、無污染物、成本低等...
EDI超純水設備用以生產制造純水，不用再造化工品，運作低成本。EDI系統自動化程度高，可以連續工作。出水量水體優良平穩，出水量電阻低≥15mΩ·cm。...
超純水，其標準是水電阻率為18.2MΩ-cm。超純水除了水，離子含量接近無，是一種強氧化劑，容易被空氣二次污染，即使儲存，電阻率也下降得很快。...
萊特萊德可以為用戶提供更好的超純水質量，有效解決超純水清洗芯片的問題，更好地提高芯片的良品率。...
萊特萊德可為用戶提供更優質的超純水設備，有效解決鋰電池生產用水存在的問題，更好地提高鋰電池的品質。...
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