在近幾年科技的不斷發(fā)展與進步中,我國國產(chǎn)芯片的成長速度也是有目共睹的,芯片制造業(yè)也成為了“爆款”產(chǎn)業(yè)。這樣一來芯片的生產(chǎn)量開始大幅度上漲,今天我們要了解的就是芯片生產(chǎn)中的超純水制造。
芯片生產(chǎn)離不開清洗用水——超純水的制造。
芯片生產(chǎn)所需的清洗用水為電阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm的超純水。這種超純水的制備過程比較復雜,為了達到芯片生產(chǎn)的用水要求,制備超純水的設備需要經(jīng)過嚴格的檢測。
據(jù)了解,傳統(tǒng)超純水制備過程中通常采用離子交換樹脂,此工藝需要進行樹脂再生,既耗費物力又耗費人工。目前,為了更好地節(jié)省人工和耗材,人們開始采用RO反滲透技術和EDI相結合的工藝,從而來制備超純水。
目前這種超純水設備與傳統(tǒng)工藝相比,不僅投入的運行成本低且人工成本也是很低的,并且設備的整體集成化程度高、自動化程度高,遇故障可以實現(xiàn)立即自停,具有自動保護功能。而且該設備應用的膜技術,具有較高的溶質(zhì)分離率和透過率,可以高效產(chǎn)出高品質(zhì)超純水。
綜上,我們了解到,超純水設備出水電導率可達18.2mΩ,大大的滿足芯片行業(yè)用水需求,是該行業(yè)清洗用水的重要保障。
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