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集成電路的性能直接決定了電子產品的效率、可靠性和微型化程度，而這一切的背后，離不開一個看似簡單實則至關重要的因素——超純水。...
超純水，即電阻率高達18MΩ*cm以上的水，幾乎不含任何雜質，是芯片清洗、光刻、蝕刻等工藝中不可或缺的溶劑。它能有效去除芯片表面的微小顆粒和有機物殘留，防止污染物影響電路的完整性和電性能，從而保障...
EDI技術作為制備超純水的先進手段，以其高效、環保的特點，在超純水制備領域占據了舉足輕重的地位。...
超純水的獲得并非易事，它依賴于一系列精密的過濾和凈化技術。通過采用EDI(電去離子)、反滲透膜技術以及拋光混床技術的集成系統，確保了超純水的高品質與穩定性。...
超純水，定義為電阻率超過18 MΩ*cm，幾乎不含有任何雜質的水，是半導體制造中最為嚴苛的用水標準。...
超純水設備通過精密的反滲透、EDI以及拋光混床技術，實現了對水中離子、有機物、顆粒物等雜質的深度去除，確保了供給芯片制造的超純水具有極高的純度。...
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