芯片的設計與制造是一個非常復雜的產業鏈,它不僅鏈路長,各個環節還緊密相扣。芯片設計公司必須掌握先進半導體制造技術,才能讓整個鏈條的協作更加順暢。而且,掌握先進制造技術,可以提高芯片產品良率,提高產品集成度,還可以反向推動制造和封測的技術創新。
芯片的制造主要分三大生產環節:晶圓、封裝和測試。在整個制造過程中,如何取得質量、產出和成本的優化,提升產品的整體競爭力,是一家設計公司綜合技術實力的體現。很多人不知道的是,芯片生產過程是離不開超純水的,超純水用于芯片的各個清洗環節,是十分重要的。超純水的制造來不開超純水設備,因此,超純水設備也為芯片生產助力。
一個8英寸的晶圓可以生產大約100個芯片,需要2000加侖的超純水來達到所需的純度。據國際半導體設備和材料組織估計,2007年生產了1730萬英寸硅片,消耗的超純水足以填滿50萬個奧林匹克游泳池,從另一個角度反映了半導體行業對超純水的巨大需求。
萊特萊德超純水設備采用反滲透加離子交換系統(或EDI)相結合的工藝來制取超純水,該工藝與傳統工藝相比具有運行成本低的優點(離子交換器的再生周期大大延長),運行可靠。萊特萊德超純水設備出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業用純水水質TypeE-1.2,高于我國國家電子級超純水標準。
芯片是信息技術發展的核心,是支持現代經濟社會發展的基礎性和主導性產業。隨著現在經濟的不斷發展,集成電路的設計對于水質要求不斷提高,所以在生產中需要用到超純水來保障其性能。
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