如今EDI超純水設備已廣泛應用到生產半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件等電子工業。芯片行業在我國才剛剛起步,在未來有著廣闊的發展空間,接下來的10年將是我國芯片行業發展的機遇期,而應用優質超純水設備才能夠保證芯片行業的水質符合標準,增加元件的成品率。
超純水在生產電子芯片的過程中必不可少。超純水設備是芯片生產中的重要一環,隨著芯片的精密度越來越高,生產環節對于水質的要求也越來越高,為了保證生產出超大規模的集成電路除高純原材料、高純氣體、高純化學藥品外,超純水也是其中重要的因素之一。
由于現代工業技術的發展,對水質要求的日益嚴格,純水制備技術相應地迅速發展起來,成為工業用水中應用廣泛的一個新門類。水質指標接近理論純水稱為“超純水”,集中反映在電阻率、微粒、硅、溶解氣體、有機物、微生物等六個方面,其中電阻率達18MΩ·cm (25℃),即水的純度為99.99999%,微量電解質含量10~20μg/L,粒徑為0.2μm-1μm的微粒,含量小于130個/mL,活的細菌,微生物0.01個/mL左右,各項水質指標基本達到電子級EW-1級水質標準。
芯片行業制備超純水的傳統工藝是采用陰陽樹脂交換設備,該工藝的缺點在于樹脂在使用一段時間以后要經常再生。隨著膜分離技術的不斷成熟,常采用反滲透工藝,或是采用反滲透后再經過離子交換混床、拋光混床或EDI超純水設備工藝來制取超純水,保證出水水質符合行業標準,滿足芯片行業用水需求。
EDI超純水設備還具有占地面積小,總投資少,運行環保等優點。隨著技術的不斷提高,其應用領域也越來越多,在電廠化學水處理方面、食品、飲料、飲用水的制備、海水苦咸水的淡化等方面都有著重要的應用。
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